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實驗室制冷加熱循環(huán)設備壓力控制與哪些因素有關?

 更新時間:2022-02-25 點擊量:896

  用戶在使用實驗室制冷加熱循環(huán)設備的過程中受系統壓力控制會導致選型結果,那么,如何將實驗室制冷加熱循環(huán)設備的壓力控制在額定區(qū)間范圍內呢?實驗室制冷加熱循環(huán)設備的壓力與哪些因素有關呢?


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  1、在實驗室制冷加熱循環(huán)設備的出口增加減壓閥,這樣可以更準確的控制,像化工反應釜控溫對溫度要求比較準確,升降溫速率有要求,而且壓力的話可以自動調節(jié),

  2、將實驗室制冷加熱循環(huán)設備的旁通變大,內部自循環(huán)的口徑做大一點,這樣也可以減小壓力,然后旁通上可加球閥,手動調節(jié)壓力大小;

  3、因為壓力跟循環(huán)泵的揚程有關系,揚程和壓力成正比的關系,可以在確保流量足夠的情況選擇揚程小一點的泵,這樣壓力也可以控制的小一點;

  4、在對于循環(huán)泵的選型上還可以選擇變頻泵并在輸出管路上增加壓力調節(jié)器。

實驗室制冷加熱循環(huán)設備是制藥化工行業(yè)中常用的流體控溫的主流設備,滿足生產流程中設定的工藝溫度以及各種控溫的要求。